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离子注入掺杂工艺

离子注入掺杂工艺正文　　将加速到一定高能量的离子束注入固体材料表面层内，以改变表面层物理和化学性质的工艺。在半导体中注入相应的杂质原子(如在硅中注入硼、磷或砷等)，可改变其表面电导率或形成PN结。　... [阅读全文]

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