杂质扩散工艺正文 利用固态扩散原理将杂质元素按要求的深度掺入半导体表面或体内指定区域的工艺。在硅集成电路工艺中,主要是掺化学元素Ⅲ族和Ⅴ族杂质。掺入Ⅲ族元素形成P区;掺入Ⅴ族元素形成N区。杂质扩散工... [阅读全文]
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